Epson Digital Couture auf der NY Fashion Week

Epson Digital Couture auf der NY Fashion Week

Nach Berlin, Stockholm und Kopenhagen sind nun auch die New Yorker Modedesigner am Zug. Vom 11. bis 18. Februar zeigen sie im Big Apple ihre Entwürfe für die Herbst Winter 2016 Saison – darunter auch der japanische Technologie Riese Epson.
Elf ausgesuchte Designer werden bereits im Voraus ihre Kollektionen präsentieren, die sie mit der neuesten Epson-Technik entworfen haben. Mit Hilfe von Thermodruckern erstellt, verwirklichten sie ihre Ideen zum Thema „Harmony and Peace through Fashion“. Modesearch Berlin wird in den kommenden Tagen über das Fashion-Event berichten.

Folgende Designer sind an der Epson Digital Couture Kooperation beteiligt:
Chloe Trujillo, Los Angeles
Cristina Ruales, New York
Fabrizzio Berrocal, Costa Rica
GM by Gustavo Moscoso, Ecuador
Kaleidoscopic by María de Lourdes Ramírez und Isabel Navarro Landa, Mexiko
Lenerd by Felipe Santamaría Luque, Kolumbien
Matías Hernán, Chile
Ossira by Agostina Orlandi und Ludmila Osikovsky, Argentinien
Pionier by Janet Ríos und Carmen Artica, Peru
Santika by Danny Santiago, Miami
Tigresse by Fabio Yukio, Brasilien

Digitale Thermodruckverfahren und Technologien, mit denen Prints einfach und schnell auf Textilien gedruckt werden können, sind mittlerweile zum Trend in der Modebranche geworden. Durch die Epson SureColor® F-Serie wird den Modedesignern ein neuer Bereich eröffnet, in dem sie Farbwechsel und Designänderungen per Mausklick durchführen können. Die Verschmelzung von Mode und Technologie ist bereits in aller Munde und wird uns in Zukunft noch so einige Innovationen bereiten.

Text: Jenny Kolossa
Foto: Epson